R. Vernhes, O. Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu
Article de revue (2006)
Un lien externe est disponible pour ce document| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| Centre de recherche: | RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/22410/ |
| Titre de la revue: | Journal of Applied Physics (vol. 100, no 6) |
| Maison d'édition: | American Institute of Physics |
| DOI: | 10.1063/1.2349565 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.2349565 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:18 |
| Dernière modification: | 08 avr. 2025 02:10 |
| Citer en APA 7: | Vernhes, R., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2006). Pulsed radio frequency plasma deposition of a-SiNₓ:H alloys: film properties, growth mechanism, and applications. Journal of Applied Physics, 100(6), 63308-1. https://doi.org/10.1063/1.2349565 |
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