Pulsed radio frequency plasma deposition of a-SiNₓ:H alloys: film properties, growth mechanism, and applications

R. Vernhes, O. Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha et Ludvik Martinu

Article de revue (2006)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/22410/
Titre de la revue:	Journal of Applied Physics (vol. 100, no 6)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1063/1.2349565
URL officielle:	https://doi.org/10.1063/1.2349565
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:18
Dernière modification:	26 sept. 2024 13:49

Citer en APA 7:	Vernhes, R., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2006). Pulsed radio frequency plasma deposition of a-SiNₓ:H alloys: film properties, growth mechanism, and applications. Journal of Applied Physics, 100(6), 63308-1. https://doi.org/10.1063/1.2349565
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