<  Retour au portail Polytechnique Montréal

Drastic Ion-Implantation-Induced Intermixing During the Annealing of Self-Assembled InSs/InP(001) Quantum Dots

C. Dion, Patrick Desjardins, M. Chicoine, F. Schiettekatte, P. J. Poole et S. Raymond

Article de revue (2007)

Un lien externe est disponible pour ce document
Département: Département de génie physique
Centre de recherche: RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/22033/
Titre de la revue: Nanotechnology (vol. 18, no 1)
Maison d'édition: IOP Publishing
DOI: 10.1088/0957-4484/18/1/015404
URL officielle: https://doi.org/10.1088/0957-4484/18/1/015404
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:16
Dernière modification: 27 sept. 2024 14:00
Citer en APA 7: Dion, C., Desjardins, P., Chicoine, M., Schiettekatte, F., Poole, P. J., & Raymond, S. (2007). Drastic Ion-Implantation-Induced Intermixing During the Annealing of Self-Assembled InSs/InP(001) Quantum Dots. Nanotechnology, 18(1), 15404-15500. https://doi.org/10.1088/0957-4484/18/1/015404

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document Afficher document