Chemical Characterisation of Nitrogen-Rich Plasma-Polymer Films Deposited in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure

Pierre-Luc Girard-Lauriault, Patrick Desjardins, Wolfgang E. S. Unger, Andreas Lippitz et Michael R. Wertheimer

Article de revue (2008)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/20747/
Titre de la revue:	Plasma Processes and Polymers (vol. 5, no 7)
Maison d'édition:	Wiley
DOI:	10.1002/ppap.200800054
URL officielle:	https://doi.org/10.1002/ppap.200800054
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:15
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:04

Citer en APA 7:	Girard-Lauriault, P.-L., Desjardins, P., Unger, W. E. S., Lippitz, A., & Wertheimer, M. R. (2008). Chemical Characterisation of Nitrogen-Rich Plasma-Polymer Films Deposited in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure. Plasma Processes and Polymers, 5(7), 631-644. https://doi.org/10.1002/ppap.200800054
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