Chemical Characterisation of Nitrogen-Rich Plasma-Polymer Films Deposited in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure

Pierre-Luc Girard-Lauriault, Patrick Desjardins, Wolfgang E. S. Unger, Andreas Lippitz, Michael R. Wertheimer

Article de revue (2008)

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Titre de la revue :
Plasma Processes and Polymers ( vol. 5 , no 7 )
Maison d'édition:
Wiley
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:20747
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:15
Dernière modification:
14 oct. 2026 12:52
Citer en APA 7:
Girard-Lauriault, P.-L., Desjardins, P., Unger, W. E. S., Lippitz, A., & Wertheimer, M. R. (2008). Chemical Characterisation of Nitrogen-Rich Plasma-Polymer Films Deposited in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure. Plasma Processes and Polymers, 5(7), 631-644. https://doi.org/10.1002/ppap.200800054

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