Pierre-Luc Girard-Lauriault, Patrick Desjardins, Wolfgang E. S. Unger, Andreas Lippitz et Michael R. Wertheimer
Article de revue (2008)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/20747/ |
Titre de la revue: | Plasma Processes and Polymers (vol. 5, no 7) |
Maison d'édition: | Wiley |
DOI: | 10.1002/ppap.200800054 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1002/ppap.200800054 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:15 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 15:59 |
Citer en APA 7: | Girard-Lauriault, P.-L., Desjardins, P., Unger, W. E. S., Lippitz, A., & Wertheimer, M. R. (2008). Chemical Characterisation of Nitrogen-Rich Plasma-Polymer Films Deposited in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure. Plasma Processes and Polymers, 5(7), 631-644. https://doi.org/10.1002/ppap.200800054 |
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