<  Retour au portail Polytechnique Montréal

Chemical Characterisation of Nitrogen-Rich Plasma-Polymer Films Deposited in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure

Pierre-Luc Girard-Lauriault, Patrick Desjardins, Wolfgang E. S. Unger, Andreas Lippitz et Michael R. Wertheimer

Article de revue (2008)

Un lien externe est disponible pour ce document
Département: Département de génie physique
Centre de recherche: GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/20747/
Titre de la revue: Plasma Processes and Polymers (vol. 5, no 7)
Maison d'édition: Wiley
DOI: 10.1002/ppap.200800054
URL officielle: https://doi.org/10.1002/ppap.200800054
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:15
Dernière modification: 25 sept. 2024 15:59
Citer en APA 7: Girard-Lauriault, P.-L., Desjardins, P., Unger, W. E. S., Lippitz, A., & Wertheimer, M. R. (2008). Chemical Characterisation of Nitrogen-Rich Plasma-Polymer Films Deposited in Dielectric Barrier Discharges at Atmospheric Pressure. Plasma Processes and Polymers, 5(7), 631-644. https://doi.org/10.1002/ppap.200800054

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document Afficher document