Metastable phase formation during the reaction of Ni films with Si(001): The role of texture inheritance

Simon Gaudet, C. Coia, Patrick Desjardins, C. Lavoie

Article de revue (2010)

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Département:
Département de génie physique
Unité de recherche:
RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe
Adresse URL de PolyPublie:
https://publications.polymtl.ca/18289/
Titre de la revue :
Journal of Applied Physics ( vol. 107 , no 9 )
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
10.1063/1.3327451
URL officielle:
https://doi.org/10.1063/1.3327451
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:18289
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:13
Dernière modification:
14 oct. 2026 11:21
Citer en APA 7:
Gaudet, S., Coia, C., Desjardins, P., & Lavoie, C. (2010). Metastable phase formation during the reaction of Ni films with Si(001): The role of texture inheritance. Journal of Applied Physics, 107(9), 093515-093515. https://doi.org/10.1063/1.3327451

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