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Metastable phase formation during the reaction of Ni films with Si(001): The role of texture inheritance

Simon Gaudet, C. Coia, Patrick Desjardins et C. Lavoie

Article de revue (2010)

Un lien externe est disponible pour ce document
Département: Département de génie physique
Centre de recherche: RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/18289/
Titre de la revue: Journal of Applied Physics (vol. 107, no 9)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.3327451
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.3327451
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:13
Dernière modification: 27 sept. 2024 11:15
Citer en APA 7: Gaudet, S., Coia, C., Desjardins, P., & Lavoie, C. (2010). Metastable phase formation during the reaction of Ni films with Si(001): The role of texture inheritance. Journal of Applied Physics, 107(9), 093515-093515. https://doi.org/10.1063/1.3327451

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