Zhen Zhang, Bin Yang, Yu Zhu, Simon Gaudet, Steve Rossnagel, Andrew J. Kellock, Ahmet Ozcan, Conal Murray, Patrick Desjardins
, Shi-Li Zhang, Jean Jordan-Sweet, Christian Lavoie
Article de revue (2010)
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Titre de la revue
:
Applied Physics Letters
(
vol.
97
,
no
25
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:17404
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:14
Dernière modification:
14 oct. 2026 11:19
Citer en APA 7:
Zhang, Z., Yang, B., Zhu, Y., Gaudet, S., Rossnagel, S., Kellock, A. J., Ozcan, A., Murray, C., Desjardins, P., Zhang, S.-L., Jordan-Sweet, J., & Lavoie, C. (2010). Exploitation of a self-limiting process for reproducible formation of ultrathin Ni1-xPtx silicide films. Applied Physics Letters, 97(25), 252108-252108. https://doi.org/10.1063/1.3529459
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