Simon Gaudet, Patrick Desjardins
, C. Lavoie
Article de revue (2011)
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Titre de la revue
:
Journal of Applied Physics
(
vol.
110
,
no
11
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:16861
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:12
Dernière modification:
14 oct. 2026 11:19
Citer en APA 7:
Gaudet, S., Desjardins, P., & Lavoie, C. (2011). The thermally-induced reaction of thin Ni films with Si : Effect of the substrate orientation. Journal of Applied Physics, 110(11). https://doi.org/10.1063/1.3662110
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