Simon Gaudet, Patrick Desjardins
et C. Lavoie
Article de revue (2011)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/16861/ |
| Titre de la revue: | Journal of Applied Physics (vol. 110, no 11) |
| Maison d'édition: | American Institute of Physics |
| DOI: | 10.1063/1.3662110 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.3662110 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:12 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 10:58 |
| Citer en APA 7: | Gaudet, S., Desjardins, P., & Lavoie, C. (2011). The thermally-induced reaction of thin Ni films with Si : Effect of the substrate orientation. Journal of Applied Physics, 110(11). https://doi.org/10.1063/1.3662110 |
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