Pierre-Luc Girard-Lauriault, Juan-Carlos Ruiz, Thomas Gross, Michael R. Wertheimer
, Wolfgang E. S. Unger
Article de revue (2011)
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Titre de la revue
:
Plasma Chemistry and Plasma Processing
(
vol.
31
,
no
4
)
Maison d'édition:
Springer
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:16835
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:12
Dernière modification:
14 oct. 2026 11:19
Citer en APA 7:
Girard-Lauriault, P.-L., Ruiz, J.-C., Gross, T., Wertheimer, M. R., & Unger, W. E. S. (2011). Ultra-shallow chemical characterization of organic thin films deposited by plasma and vacuum-ultraviolet, using angle- and excitation energy-resolved XPS. Plasma Chemistry and Plasma Processing, 31(4), 535-550. https://doi.org/10.1007/s11090-011-9306-3
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