Ultra-shallow chemical characterization of organic thin films deposited by plasma and vacuum-ultraviolet, using angle- and excitation energy-resolved XPS

Pierre-Luc Girard-Lauriault, Juan-Carlos Ruiz, Thomas Gross, Michael R. Wertheimer et Wolfgang E. S. Unger

Article de revue (2011)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/16835/
Titre de la revue:	Plasma Chemistry and Plasma Processing (vol. 31, no 4)
Maison d'édition:	Springer
DOI:	10.1007/s11090-011-9306-3
URL officielle:	https://doi.org/10.1007/s11090-011-9306-3
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:12
Dernière modification:	05 avr. 2024 10:58

Citer en APA 7:	Girard-Lauriault, P.-L., Ruiz, J.-C., Gross, T., Wertheimer, M. R., & Unger, W. E. S. (2011). Ultra-shallow chemical characterization of organic thin films deposited by plasma and vacuum-ultraviolet, using angle- and excitation energy-resolved XPS. Plasma Chemistry and Plasma Processing, 31(4), 535-550. https://doi.org/10.1007/s11090-011-9306-3
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