M. Hala, J. Capek, O. Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha
et Ludvik Martinu
Article de revue (2012)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| Centre de recherche: | LaRFIS - Laboratoire des Revêtements Fonctionnels et Ingénierie des Surfaces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/15304/ |
| Titre de la revue: | Surface and Coatings Technology (vol. 206, no 19-20) |
| Maison d'édition: | Elsevier |
| DOI: | 10.1016/j.surfcoat.2012.04.019 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2012.04.019 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:11 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 15:52 |
| Citer en APA 7: | Hala, M., Capek, J., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2012). Pulse Management in High Power Pulsed Magnetron Sputtering of Niobium. Surface and Coatings Technology, 206(19-20), 4186-4193. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2012.04.019 |
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