J. Capek, M. Hala, O. Zabeida, Jolanta-Ewa Sapieha
et Ludvik Martinu
Article de revue (2013)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/14158/ |
| Titre de la revue: | Journal of Physics D: Applied Physics (vol. 46, no 20) |
| Maison d'édition: | IOP Publishing |
| DOI: | 10.1088/0022-3727/46/20/205205 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1088/0022-3727/46/20/205205 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:09 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 15:51 |
| Citer en APA 7: | Capek, J., Hala, M., Zabeida, O., Sapieha, J.-E., & Martinu, L. (2013). Deposition rate enhancement in HiPIMS without compromising the ionized fraction of the deposition flux. Journal of Physics D: Applied Physics, 46(20), 10 pages. https://doi.org/10.1088/0022-3727/46/20/205205 |
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