Robert M. Jacobberger, Pierre L. Levesque, Feng Xu, Meng-Yin Wu, Saman Choubak, Patrick Desjardins
, Richard Martel et Michael S. Arnold
Article de revue (2015)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/11138/ |
| Titre de la revue: | Journal of Physical Chemistry C (vol. 119, no 21) |
| Maison d'édition: | American Chemical Society (ACS) |
| DOI: | 10.1021/jp5116355 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1021/jp5116355 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:07 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 10:49 |
| Citer en APA 7: | Jacobberger, R. M., Levesque, P. L., Xu, F., Wu, M.-Y., Choubak, S., Desjardins, P., Martel, R., & Arnold, M. S. (2015). Tailoring the growth rate and surface facet for synthesis of high-quality continuous graphene films from CH₄ at 750 °C via chemical vapor deposition. Journal of Physical Chemistry C, 119(21), 11516-11523. https://doi.org/10.1021/jp5116355 |
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