Documents dont l'auteur est "Kellock, A. J."

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C

Coia, C., Lavoie, C., D'Heurle, F. M., Detavernier, C., Desjardins, P., & Kellock, A. J. (mai 2005). Reactive diffusion in the Ni-Si system: Influence of Ni thickness on the phase formation sequence [Communication écrite]. 207th Meeting of the Electrochemical Society, Québec, Canada. Lien externe

G

Gaudet, S., Detavernier, C., Kellock, A. J., Desjardins, P., & Lavoie, C. (2006). Thin film reaction of transition metals with germanium. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 24(3), 474-485. Lien externe

L

Leroy, W. P., Detavernier, C., Van Meirhaeghe, R. L., Kellock, A. J., & Lavoie, C. (2006). Solid-State Formation of Titanium Carbide and Molybdenum Carbide as Contacts for Carbon-Containing Semiconductors. Journal of Applied Physics, 99(6). Lien externe

Lavoie, C., Coia, C., D'heurle, F. M., Detavernier, C., Cabral, C., Desjardins, P., & Kellock, A. J. (juillet 2004). Reactive Diffusion in the Ni-Si System: Phase Sequence and Formation of Metal-Rich Phases [Communication écrite]. Diffusion in Materials: Dimat 2004 : 6th International Conference on Diffusion in Materials, Cracow, Poland. Lien externe