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Documents dont l'auteur est "Diawara, Y."

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Article de revue

Grüning, U., Gujrathi, S. C., Poulin, S., Diawara, Y., & Yelon, A. (1994). Remote oxygen-containing hydrogen plasma treatment of porous silicon. Journal of Applied Physics, 75(12), 8075-9. Lien externe

Bekkay, T., Piyakis, K., Diawara, Y., Sacher, E., Yelon, A., & Currie, J. F. (1991). Band bending and Fermi level shifts in phosphorus-doped hydrogenated amorphous silicon studied by X-ray photoelectron spectroscopy. Surface Science, 258(1-3), 190-196. Lien externe

Diawara, Y., Currie, J. F., Gujrathi, S. C., & Oxorn, K. (1989). Effet d'une pulvérisation de l'antimoine dans le a-Si: H. Canadian Journal of Physics, 67(10), 1007-1010. Lien externe

Communication écrite

Diawara, Y., Currie, J. F., Yelon, A., Petrova-Koch, V., & Nikolov, A. (novembre 1994). Temperature dependence of stresses and H desorption in porous silicon [Communication écrite]. 1994 Fall Meeting, Boston, MA, USA. Lien externe

Liste produite: Sun Dec 7 04:43:20 2025 EST.