Documents dont l'auteur est "Diawara, Y."

Article de revue

Gruning, U., Gujrathi, S. C., Poulin, S., Diawara, Y., & Yelon, A. (1994). Remote oxygen-containing hydrogen plasma treatment of porous silicon. Journal of Applied Physics, 75(12), 8075-9. Lien externe

Communication écrite

Diawara, Y., Currie, J. F., Yelon, A., Petrova-Koch, V., & Nikolov, A. (novembre 1994). Temperature dependence of stresses and H desorption in porous silicon [Communication écrite]. 1994 Fall Meeting, Boston, MA, USA. Lien externe