Remote oxygen-containing hydrogen plasma treatment of porous silicon

Grüning, U.; Gujrathi, S. C.; Poulin, Suzie; Diawara, Y.; Yelon, Arthur; Grüning, U.; Gujrathi, S. C.; Poulin, Suzie; Diawara, Y.; Yelon, Arthur

Remote oxygen-containing hydrogen plasma treatment of porous silicon

U. Grüning, S. C. Gujrathi, Suzie Poulin, Y. Diawara, Arthur Yelon

Article de revue (1994)

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Département:

Département de génie physique

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/33249/

Titre de la revue :

Journal of Applied Physics ( vol. 75 , no 12 )

Maison d'édition:

American Institute of Physics

DOI:

10.1063/1.356550

URL officielle:

https://doi.org/10.1063/1.356550

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:33249

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:25

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:21

Citer en APA 7:

Grüning, U., Gujrathi, S. C., Poulin, S., Diawara, Y., & Yelon, A. (1994). Remote oxygen-containing hydrogen plasma treatment of porous silicon. Journal of Applied Physics, 75(12), 8075-9. https://doi.org/10.1063/1.356550

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