<  Retour au portail Polytechnique Montréal

Microstructure and growth kinetics of nickel silicide ultra-thin films synthesized by solid-state reactions

Cédrik Coia

Thèse de doctorat (2008)

Document en libre accès dans PolyPublie
[img]
Affichage préliminaire
Libre accès au plein texte de ce document
Version officielle de l'éditeur
Conditions d'utilisation: Tous droits réservés
Télécharger (18MB)
Afficher le résumé
Cacher le résumé

Mots clés

Siliciures; Couches minces de nickel

Renseignements supplémentaires: Le fichier PDF de ce document a été produit par Bibliothèque et Archives Canada selon les termes du programme Thèses Canada https://canada.on.worldcat.org/oclc/643660742
Département: Département de génie physique
Directeurs ou directrices: Patrick Desjardins et Christian Lavoie
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/8192/
Université/École: École Polytechnique de Montréal
Date du dépôt: 04 août 2021 11:04
Dernière modification: 28 sept. 2024 22:25
Citer en APA 7: Coia, C. (2008). Microstructure and growth kinetics of nickel silicide ultra-thin films synthesized by solid-state reactions [Thèse de doctorat, École Polytechnique de Montréal]. PolyPublie. https://publications.polymtl.ca/8192/

Statistiques

Total des téléchargements à partir de PolyPublie

Téléchargements par année

Provenance des téléchargements

Actions réservées au personnel

Afficher document Afficher document