A novel Ti:LiNbO₃ ridge waveguide linear mode confinement modulator fabricated by reactive ion-beam etching

Michel Bélanger et Gar Lam Yip

Article de revue (1987)

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Département:	Département de génie électrique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/75253/
Titre de la revue:	Journal of Lightwave Technology (vol. 5, no 9)
Maison d'édition:	Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI:	10.1109/jlt.1987.1075627
URL officielle:	https://doi.org/10.1109/jlt.1987.1075627
Date du dépôt:	07 avr. 2026 14:58
Dernière modification:	07 avr. 2026 14:58

Citer en APA 7:	Bélanger, M., & Yip, G. L. (1987). A novel Ti:LiNbO₃ ridge waveguide linear mode confinement modulator fabricated by reactive ion-beam etching. Journal of Lightwave Technology, 5(9), 1252-1257. https://doi.org/10.1109/jlt.1987.1075627
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