A novel Ti:LiNbO₃ ridge waveguide linear mode confinement modulator fabricated by reactive ion-beam etching

Michel Bélanger, Gar Lam Yip

Article de revue (1987)

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Mots clés

Département:
Département de génie électrique
Adresse URL de PolyPublie:
https://publications.polymtl.ca/75253/
Titre de la revue :
Journal of Lightwave Technology ( vol. 5 , no 9 )
Maison d'édition:
Institute of Electrical and Electronics Engineers
DOI:
10.1109/jlt.1987.1075627
URL officielle:
https://doi.org/10.1109/jlt.1987.1075627
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:75253
ORCID
Date du dépôt:
07 avr. 2026 14:58
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:36
Citer en APA 7:
Bélanger, M., & Yip, G. L. (1987). A novel Ti:LiNbO₃ ridge waveguide linear mode confinement modulator fabricated by reactive ion-beam etching. Journal of Lightwave Technology, 5(9), 1252-1257. https://doi.org/10.1109/jlt.1987.1075627

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