Conduction mechanisms in polysiloxane films deposited by microwave glow discharge

A. M. Okoniewski et Arthur Yelon

Article de revue (1985)

Un lien externe est disponible pour ce document

Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
Organismes subventionnaires:	Natural Sciences and Engineering Research Council of Canada, Fonds FCAC of Québec
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/73516/
Titre de la revue:	Journal of Applied Physics (vol. 58, no 1)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1063/1.335695
URL officielle:	https://doi.org/10.1063/1.335695
Date du dépôt:	07 avr. 2026 13:58
Dernière modification:	07 avr. 2026 13:58

Citer en APA 7:	Okoniewski, A. M., & Yelon, A. (1985). Conduction mechanisms in polysiloxane films deposited by microwave glow discharge. Journal of Applied Physics, 58(1), 414-419. https://doi.org/10.1063/1.335695
APA 7 (HTML)ASCII CitationAtomBibTeXDOIsDublin CoreEndNote (.ENW)MARC (ISO 2709/UTF-8) (.MRC)MARC (UTF-8) (.MRK8)MARC XMLMPEG-21 DIDLMultiline CSVOAI-ORE Resource Map (Atom Format)OPENAIREOpenURL ContextObjectOpenURL ContextObject in SpanRDF+N-TriplesRDF+N3RDF+XMLReferReference Manager (.RIS)Simple Metadata

Statistiques

Actions réservées au personnel