Conduction mechanisms in polysiloxane films deposited by microwave glow discharge

A. M. Okoniewski, Arthur Yelon

Article de revue (1985)

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Mots clés

Organismes subventionnaires:
Natural Sciences and Engineering Research Council of Canada, Fonds FCAC of Québec
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
Journal of Applied Physics ( vol. 58 , no 1 )
Maison d'édition:
American Institute of Physics
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:73516
ORCID
Date du dépôt:
07 avr. 2026 13:58
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:34
Citer en APA 7:
Okoniewski, A. M., & Yelon, A. (1985). Conduction mechanisms in polysiloxane films deposited by microwave glow discharge. Journal of Applied Physics, 58(1), 414-419. https://doi.org/10.1063/1.335695

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