Reactive sputtering of InP in N₂ and N₂/O₂ plasmas

Chetlur S. Sundararaman, H. Lafontaine, S. Poulin, Andre Mouton et John F. Currie

Article de revue (1991)

Un lien externe est disponible pour ce document

Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/70927/
Titre de la revue:	Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena (vol. 9, no 3)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1116/1.585446
URL officielle:	https://doi.org/10.1116/1.585446
Date du dépôt:	18 déc. 2025 15:41
Dernière modification:	18 déc. 2025 15:41

Citer en APA 7:	Sundararaman, C. S., Lafontaine, H., Poulin, S., Mouton, A., & Currie, J. F. (1991). Reactive sputtering of InP in N₂ and N₂/O₂ plasmas. Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena, 9(3), 1433-1439. https://doi.org/10.1116/1.585446
APA 7 (HTML)ASCII CitationAtomBibTeXDOIsDublin CoreEndNote (.ENW)MARC (ISO 2709/UTF-8) (.MRC)MARC (UTF-8) (.MRK8)MARC XMLMPEG-21 DIDLMultiline CSVOAI-ORE Resource Map (Atom Format)OPENAIREOpenURL ContextObjectOpenURL ContextObject in SpanRDF+N-TriplesRDF+N3RDF+XMLReferReference Manager (.RIS)Simple Metadata

Statistiques

Actions réservées au personnel