Etching of a-C:H films by an atomic oxygen beam

Emmanuel Bourdon, A. Raveh, Subhash C. Gujrathi, Ludvik Martinu

Article de revue (1993)

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Titre de la revue :
Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films ( vol. 11 , no 5 )
Maison d'édition:
American Institute of Physics
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:70926
ORCID
Date du dépôt:
18 déc. 2025 15:42
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:31
Citer en APA 7:
Bourdon, E., Raveh, A., Gujrathi, S. C., & Martinu, L. (1993). Etching of a-C:H films by an atomic oxygen beam. Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films, 11(5), 2530-2535. https://doi.org/10.1116/1.578603

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