Etching of a-C:H films by an atomic oxygen beam

Emmanuel Bourdon, A. Raveh, Subhash C. Gujrathi et Ludvik Martinu

Article de revue (1993)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/70926/
Titre de la revue:	Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films (vol. 11, no 5)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1116/1.578603
URL officielle:	https://doi.org/10.1116/1.578603
Date du dépôt:	18 déc. 2025 15:42
Dernière modification:	18 déc. 2025 15:42

Citer en APA 7:	Bourdon, E., Raveh, A., Gujrathi, S. C., & Martinu, L. (1993). Etching of a-C:H films by an atomic oxygen beam. Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films, 11(5), 2530-2535. https://doi.org/10.1116/1.578603
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