Effects of additive elements on the phase formation and morphological stability of nickel monosilicide films

Christian Lavoie, Christophe Detavernier, Cyril Jr. Cabral, François M. d'Heurle, Andrew J. Kellock, Jean Jordan-Sweet et James M. E. Harper

Article de revue (2006)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/67615/
Titre de la revue:	Microelectronic Engineering (vol. 83, no 11-12)
Maison d'édition:	Elsevier BV
DOI:	10.1016/j.mee.2006.09.006
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/j.mee.2006.09.006
Date du dépôt:	14 août 2025 16:31
Dernière modification:	14 août 2025 16:31

Citer en APA 7:	Lavoie, C., Detavernier, C., Cabral, C. J., d'Heurle, F. M., Kellock, A. J., Jordan-Sweet, J., & Harper, J. M. E. (2006). Effects of additive elements on the phase formation and morphological stability of nickel monosilicide films. Microelectronic Engineering, 83(11-12), 2042-2054. https://doi.org/10.1016/j.mee.2006.09.006
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