Michael R. Wertheimer
, M. Moisan, Jolanta-Ewa Sapieha et R. Claude
Communication écrite (1987)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/66773/ |
| Nom de la conférence: | 8th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1987) |
| Lieu de la conférence: | Tokyo, Japan |
| Date(s) de la conférence: | 1987-08-31 - 1987-09-04 |
| URL officielle: | https://www.ispc-conference.org/ispcdocs/ispc8/con... |
| Date du dépôt: | 29 juil. 2025 15:37 |
| Dernière modification: | 29 juil. 2025 15:37 |
| Citer en APA 7: | Wertheimer, M. R., Moisan, M., Sapieha, J.-E., & Claude, R. (août 1987). Effect of frequency from "low frequency" to microwave on the plasma deposition of thin films [Communication écrite]. 8th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1987), Tokyo, Japan. https://www.ispc-conference.org/ispcdocs/ispc8/content/8/08-1253.pdf |
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