A. Mackova, V. Perina, V. Hnatowicz, P. Supiot, C. Vivien, A. Bousquet, A. Granier, F. Boufayed, D. Escaich, P. Raynaud, Y. Segui, Gilles Dennler, Michael R. Wertheimer
, Z. Stryhal, J. Pavlik
Communication écrite (2003)
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Nom de la conférence:
16th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 2003)
Lieu de la conférence:
Taormina, Italy
Date(s) de la conférence:
2003-06-22 - 2003-06-27
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:66746
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Date du dépôt:
24 juil. 2025 13:24
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:28
Citer en APA 7:
Mackova, A., Perina, V., Hnatowicz, V., Supiot, P., Vivien, C., Bousquet, A., Granier, A., Boufayed, F., Escaich, D., Raynaud, P., Segui, Y., Dennler, G., Wertheimer, M. R., Stryhal, Z., & Pavlik, J. (juin 2003). Compared properties of Organosilicon films induced by RF and Microwave organosilicon/O₂ plasmas and afterglows [Communication écrite]. 16th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 2003), Taormina, Italy (5 pages). https://www.ispc-conference.org/ispcdocs/ispc16/complete/ISPC16_400_599.pdf#page=246
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