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Compared properties of Organosilicon films induced by RF and Microwave organosilicon/O₂ plasmas and afterglows

A. Mackova, V. Perina, V. Hnatowicz, P. Supiot, C. Vivien, A. Bousquet, A. Granier, F. Boufayed, D. Escaich, P. Raynaud, Y. Segui, Gilles Dennler, Michael R. Wertheimer, Z. Stryhal et J. Pavlik

Communication écrite (2003)

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Département: Département de génie physique
Centre de recherche: GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/66746/
Nom de la conférence: 16th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 2003)
Lieu de la conférence: Taormina, Italy
Date(s) de la conférence: 2003-06-22 - 2003-06-27
URL officielle: https://www.ispc-conference.org/ispcdocs/ispc16/co...
Date du dépôt: 24 juil. 2025 13:24
Dernière modification: 24 juil. 2025 13:24
Citer en APA 7: Mackova, A., Perina, V., Hnatowicz, V., Supiot, P., Vivien, C., Bousquet, A., Granier, A., Boufayed, F., Escaich, D., Raynaud, P., Segui, Y., Dennler, G., Wertheimer, M. R., Stryhal, Z., & Pavlik, J. (juin 2003). Compared properties of Organosilicon films induced by RF and Microwave organosilicon/O₂ plasmas and afterglows [Communication écrite]. 16th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 2003), Taormina, Italy (5 pages). https://www.ispc-conference.org/ispcdocs/ispc16/complete/ISPC16_400_599.pdf#page=246

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