Manfred Nachman et Pham Cong Thanh
Article de revue (1991)
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| Département: | Département de génie électrique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/62791/ |
| Titre de la revue: | IEEE Transactions on Plasma Science (vol. 19, no 2) |
| Maison d'édition: | Institute of Electrical and Electronics Engineers |
| DOI: | 10.1109/27.106841 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1109/27.106841 |
| Date du dépôt: | 21 févr. 2025 10:16 |
| Dernière modification: | 21 févr. 2025 10:16 |
| Citer en APA 7: | Nachman, M., & Thanh, P. C. (1991). Thickness of the ion sheath around a cylindrical electrode in a plasma. IEEE Transactions on Plasma Science, 19(2), 423-427. https://doi.org/10.1109/27.106841 |
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