Autocatalytic Deposition of Nickel–Boron Diffusion Barrier onto Diazonium-Treated SiO2 for High Aspect Ratio Through-Silicon Via Technology in 3D Integration

Gul Zeb, Tien Dat Nguyen, Thi Phuong Ly Giang et Xuan Tuan Le

Article de revue (2024)

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Département:	Département de génie chimique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/57861/
Titre de la revue:	ACS Applied Electronic Materials
Maison d'édition:	American Chemical Society
DOI:	10.1021/acsaelm.4c00062
URL officielle:	https://doi.org/10.1021/acsaelm.4c00062
Date du dépôt:	28 mars 2024 15:20
Dernière modification:	05 avr. 2024 12:06

Citer en APA 7:	Zeb, G., Nguyen, T. D., Giang, T. P. L., & Le, X. T. (2024). Autocatalytic Deposition of Nickel–Boron Diffusion Barrier onto Diazonium-Treated SiO2 for High Aspect Ratio Through-Silicon Via Technology in 3D Integration. ACS Applied Electronic Materials, 00062 (8 pages). https://doi.org/10.1021/acsaelm.4c00062
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