Refractory Plasmonics of Reactively Sputtered Hafnium Nitride Nanoparticles: Pushing Limits

Pavel Pleskunov, Mariia Protsak, Zdenk Krtou, Tereza Koutova, Marco Tosca, Kateryna Biliak, Veronika ervenkova, Daniil Nikitin, Jan Hanu, Miroslav Cieslar, Ivan Gordeev, Milan Dopita, Michael Vorochta, Jaroslav Kousal, Ludvik Martinu et Andrei Choukourov

Article de revue (2024)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/57783/
Titre de la revue:	Advanced Optical Materials
Maison d'édition:	John Wiley and Sons
DOI:	10.1002/adom.202302715
URL officielle:	https://doi.org/10.1002/adom.202302715
Date du dépôt:	28 mars 2024 15:20
Dernière modification:	05 avr. 2024 12:05

Citer en APA 7:	Pleskunov, P., Protsak, M., Krtou, Z., Koutova, T., Tosca, M., Biliak, K., Ervenkova, V., Nikitin, D., Hanu, J., Cieslar, M., Gordeev, I., Dopita, M., Vorochta, M., Kousal, J., Martinu, L., & Choukourov, A. (2024). Refractory Plasmonics of Reactively Sputtered Hafnium Nitride Nanoparticles: Pushing Limits. Advanced Optical Materials, 202302715 (13 pages). https://doi.org/10.1002/adom.202302715
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