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Basic mechanisms of structural relaxation and diffusion in amorphous silicon

Gerard T. Barkema, Normand Mousseau, Richard L. C. Vink et Partha Biswas

Communication écrite (2001)

Document publié alors que les auteurs ou autrices n'étaient pas affiliés à Polytechnique Montréal

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Renseignements supplémentaires: Article A28.1
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/41540/
Nom de la conférence: Symposium A: Amorphous and Heterogeneous Silicon-Based Films
Lieu de la conférence: San Francisco, Calif.
Date(s) de la conférence: 2001-04-16 - 2001-04-20
Éditeurs ou éditrices: James B. Joyce, J. David Cohen, Jun-ichi Hanna, Robert W. Collins et Martin Stutzman
Maison d'édition: Proceedings of the Materials Research Society
DOI: 10.1557/proc-664-a28.1
URL officielle: https://doi.org/10.1557/proc-664-a28.1
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:21
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:38
Citer en APA 7: Barkema, G. T., Mousseau, N., Vink, R. L. C., & Biswas, P. (avril 2001). Basic mechanisms of structural relaxation and diffusion in amorphous silicon [Communication écrite]. Symposium A: Amorphous and Heterogeneous Silicon-Based Films, San Francisco, Calif. (11 pages). https://doi.org/10.1557/proc-664-a28.1

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