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Documents dont l'auteur est "Biswas, Partha"

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Barkema, G. T., Mousseau, N., Vink, R. L. C., & Biswas, P. (avril 2001). Basic mechanisms of structural relaxation and diffusion in amorphous silicon [Communication écrite]. Symposium A: Amorphous and Heterogeneous Silicon-Based Films, San Francisco, Calif. (11 pages). Lien externe

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