Gerard T. Barkema, Normand Mousseau, Richard L. C. Vink et Partha Biswas
Communication écrite (2001)
Document publié alors que les auteurs ou autrices n'étaient pas affiliés à Polytechnique Montréal
Un lien externe est disponible pour ce documentRenseignements supplémentaires: | Article A28.1 |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/41540/ |
Nom de la conférence: | Symposium A: Amorphous and Heterogeneous Silicon-Based Films |
Lieu de la conférence: | San Francisco, Calif. |
Date(s) de la conférence: | 2001-04-16 - 2001-04-20 |
Éditeurs ou éditrices: | James B. Joyce, J. David Cohen, Jun-ichi Hanna, Robert W. Collins et Martin Stutzman |
Maison d'édition: | Proceedings of the Materials Research Society |
DOI: | 10.1557/proc-664-a28.1 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1557/proc-664-a28.1 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:21 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:27 |
Citer en APA 7: | Barkema, G. T., Mousseau, N., Vink, R. L. C., & Biswas, P. (avril 2001). Basic mechanisms of structural relaxation and diffusion in amorphous silicon [Communication écrite]. Symposium A: Amorphous and Heterogeneous Silicon-Based Films, San Francisco, Calif. (11 pages). https://doi.org/10.1557/proc-664-a28.1 |
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