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Long-time relaxation of ion-bombarded silicon studied with the kinetic activation-relaxation technique: Microscopic description of slow aging in a disordered system

Laurent Karim Béland et Normand Mousseau

Article de revue (2013)

Document publié alors que les auteurs ou autrices n'étaient pas affiliés à Polytechnique Montréal

Un lien externe est disponible pour ce document
Centre de recherche: RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/41380/
Titre de la revue: Physical Review B (vol. 88, no 21)
Maison d'édition: American Physical Society
DOI: 10.1103/physrevb.88.214201
URL officielle: https://doi.org/10.1103/physrevb.88.214201
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:09
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:38
Citer en APA 7: Béland, L. K., & Mousseau, N. (2013). Long-time relaxation of ion-bombarded silicon studied with the kinetic activation-relaxation technique: Microscopic description of slow aging in a disordered system. Physical Review B, 88(21), 214201 (9 pages). https://doi.org/10.1103/physrevb.88.214201

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