Laurent Karim Béland et Normand Mousseau
Article de revue (2013)
Document publié alors que les auteurs ou autrices n'étaient pas affiliés à Polytechnique Montréal
Un lien externe est disponible pour ce documentCentre de recherche: | RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/41380/ |
Titre de la revue: | Physical Review B (vol. 88, no 21) |
Maison d'édition: | American Physical Society |
DOI: | 10.1103/physrevb.88.214201 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1103/physrevb.88.214201 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:09 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:27 |
Citer en APA 7: | Béland, L. K., & Mousseau, N. (2013). Long-time relaxation of ion-bombarded silicon studied with the kinetic activation-relaxation technique: Microscopic description of slow aging in a disordered system. Physical Review B, 88(21), 214201 (9 pages). https://doi.org/10.1103/physrevb.88.214201 |
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