Zhujun Pan, Saira Talwar, Réjean Plamondon et Arend W. A. Van Gemmert
Article de revue (2019)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie électrique |
---|---|
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/40705/ |
Titre de la revue: | Pattern Recognition Letters (vol. 121) |
Maison d'édition: | Elsevier |
DOI: | 10.1016/j.patrec.2018.05.008 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1016/j.patrec.2018.05.008 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:02 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:26 |
Citer en APA 7: | Pan, Z., Talwar, S., Plamondon, R., & Van Gemmert, A. W. A. (2019). Characteristics of bi-directional unimanual and bimanual drawing movements: The application of the Delta-Lognormal models and Sigma-Lognormal model. Pattern Recognition Letters, 121, 97-103. https://doi.org/10.1016/j.patrec.2018.05.008 |
---|---|
Statistiques
Dimensions