Zhujun Pan, Saira Talwar, Réjean Plamondon, Arend W. A. Van Gemmert
Article de revue (2019)
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Titre de la revue
:
Pattern Recognition Letters
(
vol.
121
)
Maison d'édition:
Elsevier
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:40705
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:02
Dernière modification:
08 oct. 2026 18:00
Citer en APA 7:
Pan, Z., Talwar, S., Plamondon, R., & Van Gemmert, A. W. A. (2019). Characteristics of bi-directional unimanual and bimanual drawing movements: The application of the Delta-Lognormal models and Sigma-Lognormal model. Pattern Recognition Letters, 121, 97-103. https://doi.org/10.1016/j.patrec.2018.05.008
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