Highly durable electrochromic tungsten oxide thin films prepared by high rate bias-enhanced sputter deposition

F. Blanchard, B. Baloukas et Ludvik Martinu

Article de revue (2018)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/40570/
Titre de la revue:	Applied Materials Today (vol. 12)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/j.apmt.2018.05.001
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/j.apmt.2018.05.001
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:02
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:36

Citer en APA 7:	Blanchard, F., Baloukas, B., & Martinu, L. (2018). Highly durable electrochromic tungsten oxide thin films prepared by high rate bias-enhanced sputter deposition. Applied Materials Today, 12, 235-243. https://doi.org/10.1016/j.apmt.2018.05.001
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