Highly durable electrochromic tungsten oxide thin films prepared by high rate bias-enhanced sputter deposition

F. Blanchard, B. Baloukas, Ludvik Martinu

Article de revue (2018)

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Département:
Département de génie physique
Adresse URL de PolyPublie:
https://publications.polymtl.ca/40570/
Titre de la revue :
Applied Materials Today ( vol. 12 )
Maison d'édition:
Elsevier
DOI:
10.1016/j.apmt.2018.05.001
URL officielle:
https://doi.org/10.1016/j.apmt.2018.05.001
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:40570
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:02
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:50
Citer en APA 7:
Blanchard, F., Baloukas, B., & Martinu, L. (2018). Highly durable electrochromic tungsten oxide thin films prepared by high rate bias-enhanced sputter deposition. Applied Materials Today, 12, 235-243. https://doi.org/10.1016/j.apmt.2018.05.001

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