Structure-property relationships in dual-frequency plasma deposited hard a-C : H films

A. Raveh, Ludvik Martinu, S. C. Gujrathi, Jolanta-Ewa Sapieha, Michael R. Wertheimer

Article de revue (1992)

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Département:
Département de génie physique
Unité de recherche:
GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
Adresse URL de PolyPublie:
https://publications.polymtl.ca/38288/
Titre de la revue :
Surface and Coatings Technology ( vol. 53 , no 3 )
Maison d'édition:
Elsevier
DOI:
10.1016/0257-8972(92)90386-o
URL officielle:
https://doi.org/10.1016/0257-8972%2892%2990386-o
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:38288
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:29
Citer en APA 7:
Raveh, A., Martinu, L., Gujrathi, S. C., Sapieha, J.-E., & Wertheimer, M. R. (1992). Structure-property relationships in dual-frequency plasma deposited hard a-C : H films. Surface and Coatings Technology, 53(3), 275-282. https://doi.org/10.1016/0257-8972%2892%2990386-o

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