A. Raveh, Ludvik Martinu, S. C. Gujrathi, Jolanta-Ewa Sapieha et Michael R. Wertheimer
Article de revue (1992)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38288/ |
Titre de la revue: | Surface and Coatings Technology (vol. 53, no 3) |
Maison d'édition: | Elsevier |
DOI: | 10.1016/0257-8972(92)90386-o |
URL officielle: | https://doi.org/10.1016/0257-8972%2892%2990386-o |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:32 |
Citer en APA 7: | Raveh, A., Martinu, L., Gujrathi, S. C., Sapieha, J.-E., & Wertheimer, M. R. (1992). Structure-property relationships in dual-frequency plasma deposited hard a-C : H films. Surface and Coatings Technology, 53(3), 275-282. https://doi.org/10.1016/0257-8972%2892%2990386-o |
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