Structure-property relationships in dual-frequency plasma deposited hard a-C : H films

A. Raveh, Ludvik Martinu, S. C. Gujrathi, Jolanta-Ewa Sapieha et Michael R. Wertheimer

Article de revue (1992)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/38288/
Titre de la revue:	Surface and Coatings Technology (vol. 53, no 3)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/0257-8972(92)90386-o
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/0257-8972%2892%2990386-o
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:	08 avr. 2025 07:01

Citer en APA 7:	Raveh, A., Martinu, L., Gujrathi, S. C., Sapieha, J.-E., & Wertheimer, M. R. (1992). Structure-property relationships in dual-frequency plasma deposited hard a-C : H films. Surface and Coatings Technology, 53(3), 275-282. https://doi.org/10.1016/0257-8972%2892%2990386-o
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