Ludvik Martinu, A. Raveh, A. Domingue, L. Bertrand, Jolanta-Ewa Sapieha, S. C. Gujrathi et Michael R. Wertheimer
Article de revue (1992)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38281/ |
Titre de la revue: | Thin Solid Films (vol. 208, no 1) |
Maison d'édition: | Elsevier |
DOI: | 10.1016/0040-6090(92)90945-8 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1016/0040-6090%2892%2990945-8 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
Dernière modification: | 07 oct. 2024 09:49 |
Citer en APA 7: | Martinu, L., Raveh, A., Domingue, A., Bertrand, L., Sapieha, J.-E., Gujrathi, S. C., & Wertheimer, M. R. (1992). Hard carbon films deposited under high ion flux. Thin Solid Films, 208(1), 42-47. https://doi.org/10.1016/0040-6090%2892%2990945-8 |
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