Ludvik Martinu
, A. Raveh, A. Domingue, L. Bertrand, Jolanta-Ewa Sapieha, S. C. Gujrathi et Michael R. Wertheimer
Article de revue (1992)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38281/ |
| Titre de la revue: | Thin Solid Films (vol. 208, no 1) |
| Maison d'édition: | Elsevier |
| DOI: | 10.1016/0040-6090(92)90945-8 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1016/0040-6090%2892%2990945-8 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
| Dernière modification: | 08 avr. 2025 07:01 |
| Citer en APA 7: | Martinu, L., Raveh, A., Domingue, A., Bertrand, L., Sapieha, J.-E., Gujrathi, S. C., & Wertheimer, M. R. (1992). Hard carbon films deposited under high ion flux. Thin Solid Films, 208(1), 42-47. https://doi.org/10.1016/0040-6090%2892%2990945-8 |
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