Dual‐mode microwave/radio frequency plasma deposition of dielectric thin films

Ludvik Martinu, Jolanta-Ewa Sapieha, Michael R. Wertheimer

Article de revue (1989)

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Titre de la revue :
Applied Physics Letters ( vol. 54 , no 26 )
Maison d'édition:
American Institute of Physics
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:38279
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:29
Citer en APA 7:
Martinu, L., Sapieha, J.-E., & Wertheimer, M. R. (1989). Dual‐mode microwave/radio frequency plasma deposition of dielectric thin films. Applied Physics Letters, 54(26), 2645-2647. https://doi.org/10.1063/1.101566

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