Ludvik Martinu, Jolanta-Ewa Sapieha
, Michael R. Wertheimer
Article de revue (1989)
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Titre de la revue
:
Applied Physics Letters
(
vol.
54
,
no
26
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:38279
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:29
Citer en APA 7:
Martinu, L., Sapieha, J.-E., & Wertheimer, M. R. (1989). Dual‐mode microwave/radio frequency plasma deposition of dielectric thin films. Applied Physics Letters, 54(26), 2645-2647. https://doi.org/10.1063/1.101566
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