Dual‐mode microwave/radio frequency plasma deposition of dielectric thin films

Ludvik Martinu, Jolanta-Ewa Sapieha et Michael R. Wertheimer

Article de revue (1989)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/38279/
Titre de la revue:	Applied Physics Letters (vol. 54, no 26)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1063/1.101566
URL officielle:	https://doi.org/10.1063/1.101566
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:	25 sept. 2024 16:22

Citer en APA 7:	Martinu, L., Sapieha, J.-E., & Wertheimer, M. R. (1989). Dual‐mode microwave/radio frequency plasma deposition of dielectric thin films. Applied Physics Letters, 54(26), 2645-2647. https://doi.org/10.1063/1.101566
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