Ludvik Martinu
, Jolanta-Ewa Sapieha et Michael R. Wertheimer
Article de revue (1989)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38279/ |
| Titre de la revue: | Applied Physics Letters (vol. 54, no 26) |
| Maison d'édition: | American Institute of Physics |
| DOI: | 10.1063/1.101566 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.101566 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:22 |
| Citer en APA 7: | Martinu, L., Sapieha, J.-E., & Wertheimer, M. R. (1989). Dual‐mode microwave/radio frequency plasma deposition of dielectric thin films. Applied Physics Letters, 54(26), 2645-2647. https://doi.org/10.1063/1.101566 |
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