Dual microwave-r.f. plasma deposition of functional coatings

Jolanta-Ewa Sapieha, O. M. Küttel, Ludvik Martinu et Michael R. Wertheimer

Article de revue (1990)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/38267/
Titre de la revue:	Thin Solid Films (vol. 193)
Maison d'édition:	Elsevier
DOI:	10.1016/0040-6090(90)90251-8
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/0040-6090%2890%2990251-8
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:32

Citer en APA 7:	Sapieha, J.-E., Küttel, O. M., Martinu, L., & Wertheimer, M. R. (1990). Dual microwave-r.f. plasma deposition of functional coatings. Thin Solid Films, 193, 965-972. https://doi.org/10.1016/0040-6090%2890%2990251-8
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