Dual microwave-r.f. plasma deposition of functional coatings

Jolanta-Ewa Sapieha, O. M. Küttel, Ludvik Martinu, Michael R. Wertheimer

Article de revue (1990)

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Titre de la revue :
Thin Solid Films ( vol. 193 )
Maison d'édition:
Elsevier
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:38267
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:29
Citer en APA 7:
Sapieha, J.-E., Küttel, O. M., Martinu, L., & Wertheimer, M. R. (1990). Dual microwave-r.f. plasma deposition of functional coatings. Thin Solid Films, 193, 965-972. https://doi.org/10.1016/0040-6090%2890%2990251-8

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