Michael R. Wertheimer, M. Moisan, Jolanta-Ewa Sapieha et R. Claude
Article de revue (1988)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38245/ |
Titre de la revue: | Pure and Applied Chemistry (vol. 60, no 5) |
DOI: | 10.1351/pac198860050815 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1351/pac198860050815 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:22 |
Citer en APA 7: | Wertheimer, M. R., Moisan, M., Sapieha, J.-E., & Claude, R. (1988). Effect of frequency from 'low frequency' to microwave on the plasma deposition of thin films. Pure and Applied Chemistry, 60(5), 815-815. https://doi.org/10.1351/pac198860050815 |
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