Henri P. Schreiber, Y. B. Tewari et Michael R. Wertheimer
Article de revue (1978)
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| Département: |
Département de génie chimique Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38228/ |
| Titre de la revue: | Industrial & Engineering Chemistry Product Research and Development (vol. 17, no 1) |
| Maison d'édition: | American Chemical Society (ACS) |
| DOI: | 10.1021/i360065a008 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1021/i360065a008 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:22 |
| Citer en APA 7: | Schreiber, H. P., Tewari, Y. B., & Wertheimer, M. R. (1978). Application of Microwave Plasmas for the Passivation of Metals. Industrial & Engineering Chemistry Product Research and Development, 17(1), 27-30. https://doi.org/10.1021/i360065a008 |
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