Henri P. Schreiber, Y. B. Tewarl et Michael R. Wertheimer
Article de revue (1978)
Un lien externe est disponible pour ce document
| Département: |
Département de génie physique Département de génie chimique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38228/ |
| Titre de la revue: | Industrial & Engineering Chemistry Product Research and Development (vol. 17, no 1) |
| Maison d'édition: | American Chemical Society (ACS) |
| DOI: | 10.1021/i360065a008 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1021/i360065a008 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:32 |
| Citer en APA 7: | Schreiber, H. P., Tewarl, Y. B., & Wertheimer, M. R. (1978). Application of Microwave Plasmas for the Passivation of Metals. Industrial & Engineering Chemistry Product Research and Development, 17(1), 27-30. https://doi.org/10.1021/i360065a008 |
|---|---|
Statistiques
Dimensions
Actions réservées au personnel
|
Afficher document |
