Surface contributions to the two-layer structure in the plasma deposition of a-Si : H

Edward Sacher, Jolanta-Ewa Sapieha, Michael R. Wertheimer, Henri P. Schreiber et R. Groleau

Article de revue (1984)

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Département:	Département de génie chimique Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/38221/
Titre de la revue:	Philosophical Magazine Part B (vol. 49, no 4)
Maison d'édition:	Taylor & Francis
DOI:	10.1080/13642818408246519
URL officielle:	https://doi.org/10.1080/13642818408246519
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:	05 avr. 2024 11:32

Citer en APA 7:	Sacher, E., Sapieha, J.-E., Wertheimer, M. R., Schreiber, H. P., & Groleau, R. (1984). Surface contributions to the two-layer structure in the plasma deposition of a-Si : H. Philosophical Magazine Part B, 49(4), L47-L52. https://doi.org/10.1080/13642818408246519
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