Edward Sacher, Jolanta-Ewa Sapieha
, Michael R. Wertheimer, Henri P. Schreiber et R. Groleau
Article de revue (1984)
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| Département: |
Département de génie chimique Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38221/ |
| Titre de la revue: | Philosophical Magazine Part B (vol. 49, no 4) |
| Maison d'édition: | Taylor & Francis |
| DOI: | 10.1080/13642818408246519 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1080/13642818408246519 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
| Dernière modification: | 08 avr. 2025 07:01 |
| Citer en APA 7: | Sacher, E., Sapieha, J.-E., Wertheimer, M. R., Schreiber, H. P., & Groleau, R. (1984). Surface contributions to the two-layer structure in the plasma deposition of a-Si : H. Philosophical Magazine Part B, 49(4), L47-L52. https://doi.org/10.1080/13642818408246519 |
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